德国光学仪器公司卡尔·蔡司(Carl Zeiss)人员去年底在巨型真空室外检测阿斯麦最新一代高数值孔径极紫外光刻机(EUV)工具的光学系统打出深具意义的“第一道光”，标志着这款每台价值超过3亿5000万美元被看好将在最先进制程中扮演要角的半导体制造设备，已经进入实际测试运作阶段。(路透社)

　　(海牙/比利时合电)以荷兰光刻机巨头阿斯麦为首的八家公司要求荷兰国会支持促进国家晶片业发展的政策，包括保留对投资和熟练工人的税务减免。

　　阿斯麦(ASML)全球事务主管亨斯科克周三(4月3日)在国会听证会上说，阿斯麦必须继续增长，以满足市场对微晶片的巨大需求，但阿斯麦如今在荷兰已达到极限，因此须要政府协助。他指出，基础设施欠佳、电网过于拥挤、廉价住房短缺、税务政策多变，是阿斯麦面对的主要增长障碍。

　　这八家企业抱怨官方繁文缛节和反复无常的决策，同时批评政府的反移民政策将使晶片制造业更难以引进亟需的高技能外来人才。它们也呼吁政府不可削减对投资的税务减免，并继续对创意产业发放补贴。与阿斯麦一起请愿的包括晶片制造商恩智浦(NXP)、半导体设备供应商ASM International和Besi。

　　阿斯麦正在考虑将业务撤出荷兰，为了留住这家全球最大的半导体设备制造商，荷兰政府上周宣布将斥资25亿欧元(约36亿6000万新元)改善阿斯麦总部所在地埃因霍芬地区(Eindhoven)的基础设施。

　　另一方面，根据彭博社获得的一份声明草案，欧盟和美国计划利用人工智能(AI)技术来寻找替代品，取代广泛用于晶片生产的所谓永久化学品。

　　美国-欧盟贸易和技术理事会联合会议本周在比利时举行，会议将发布声明说，欧美双方计划继续探索研究合作机会，寻找“多聚氟烷基与全氟烷基物质”(polyfluoroalkyl and perfluoroalkyl substance，PFAS)的替代品，例如探索使用AI和数字孪生等技术来加速研发适当材料，在晶片生产中取代PFAS。

　　PFAS用于制造多种产品，包括医疗技术产品、半导体、电池、手机、汽车和飞机。它不易分解，被认为是永久性污染物，其某些类型已被证明会在环境和人体中积累，危害健康。